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荷兰芯片设备制造商艾司摩尔(ASML)执行长Christophe Fouquet接受德国媒体采访时表示,即使目前市场仍需要中国生产的传统芯片,但中国在芯片技术还落后十年,而且目前远远不可能制造出极紫外光EUV曝光机。
Fouquet认为,在半导体技术方面,中国仍落后美国十年,还有很长的路要走,但考虑到其对传统芯片流程的熟练程度,这确实使其处于轻微优势。当被问及中国是否可以重新制造EUV时,他表示,鉴于开发过程的复杂性,目前还远远不可能。
Fouquet认为,如果全球大国要对中国实施进一步的限制,必须在各自国家制定半导体生产计划,因为如果没有这个计划,供应链就很难满足产业需求。
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