日开发出简化EUV 可望重塑芯片产业

　　制造先进芯片需采用荷兰ASML制造商生产的价格高昂极紫外光曝光机（EUV），而现在日本科学家开发出简化的EUV扫描仪，据称可以大幅降低芯片的生产成本。

　　冲绳科学技术学院（OIST）的Tsumoru Shintake教授提出了一种全新的、大幅简化的EUV曝光机，比ASML开发和制造的工具更便宜。如果该设备实现量产，可能重塑芯片制造设备产业的现况。

　　新系统在光学投影设定中仅使用两面镜子，这与传统的六镜配置有很大不同。这种光学系统的挑战在于，它需要将这些反射镜沿直线对齐，从而确保系统保持较高的光学性能，而不会出现与EUV光相关的常见失真。

　　新的光路允许超过10%的初始EUV能量到达晶圆，而标准设定中的能量约为1%，这项改进是一项重大突破。这种简约设计的主要优点之一是它提高可靠性，并降低了维护复杂性。这种EUV微影工具设计的另一个优点是功耗大幅降低。